1、鍍層厚度(du)的測試方法有(you)哪(na)些(xie)？
鍍(du)層(ceng)是(shi)指為了好看(kan)或儲藏而涂(tu)在(zai)某些物品上的(de)(de)(de)金屬表(biao)面(mian)涂(tu)上一層(ceng)塑料，或者一層(ceng)稀薄(bo)的(de)(de)(de)金屬或為仿(fang)造某種(zhong)(zhong)貴(gui)重(zhong)金屬，在(zai)普通(tong)金屬的(de)(de)(de)表(biao)面(mian)鍍(du)上這種(zhong)(zhong)貴(gui)重(zhong)金屬的(de)(de)(de)薄(bo)層(ceng)。復(fu)合鍍(du)層(ceng)的(de)(de)(de)制(zhi)備是(shi)在(zai)鍍(du)液中加入一種(zhong)(zhong)或數種(zhong)(zhong)不溶性固體顆粒(li),使固體(ti)(ti)顆粒與金屬離子共沉(chen)積的過程,它實際上是一種金屬基復合材料。
鍍(du)層(ceng)厚度(du)測試檢測材料表面(mian)的金屬和氧化物覆層(ceng)的厚度(du)測試。鍍(du)層(ceng)厚度(du)的測試方(fang)法(fa)主要有金相法(fa)、X射線熒(ying)光法(fa)(fa)和掃描(miao)電鏡測試法(fa)(fa)等。
2、鍍層(ceng)厚度(du)的測試標(biao)準有哪些？
GB/T 6462-2005金屬和氧(yang)化物覆蓋層(ceng) 厚度(du)測(ce)量 顯微鏡法
GB/T 16921-2005金(jin)屬覆(fu)蓋層 覆(fu)蓋層厚(hou)度測量 X射線光(guang)譜法
ASTM B487-85(2013) 用橫斷面顯微觀(guan)察(cha)法(fa)測定(ding)金屬及氧化層厚度的試(shi)驗方法(fa)
ASTM B568-98（2014）用X射線光譜法測量涂層厚度的標準(zhun)試驗方法
ASTM A754/A754M-18用X射線熒光法測定金屬涂層在鋼上的重(zhong)量(質量(liang))的標準試驗方法(fa)
ASTM B748-90(2016)用掃描電鏡測量金屬鍍層厚度的標準(zhun)試驗(yan)方法
ISO 1463-2003金屬和氧化物覆蓋(gai)層 覆蓋(gai)層厚度的(de)測定 顯(xian)微(wei)鏡法
ISO 3497-2000 金屬(shu)覆蓋層(ceng) 鍍層(ceng)厚度(du)的測量 X射線光譜法(fa)
DIN EN ISO 3497-2001金屬鍍層(ceng) 鍍層(ceng)厚(hou)度(du)測量(liang) X射線光(guang)譜測定法
JIS H8501-1999金屬覆層厚(hou)度(du)試驗方法
AS 2331.1.1-2001金屬及相關(guan)涂層的(de)試驗方法 局部厚度試驗 橫截面顯微照相檢(jian)驗
3、鍍(du)層(ceng)厚(hou)度(du)的測試要(yao)點總結
（1）GB/T 6462-2005金屬和氧化物覆蓋層 厚度測量 顯微(wei)鏡法
適用范圍：本(ben)標準規定了運用光學顯微鏡檢(jian)測(ce)橫斷面，以測(ce)量(liang)金屬覆蓋層、氧化膜層和釉(you)瓷(ci)或玻璃(li)搪瓷(ci)覆蓋層的局部厚(hou)度(du)的方(fang)法。
試驗原理：從待(dai)測(ce)件上切割一塊試樣(yang)，鑲嵌后，采(cai)用適當的(de)技術(shu)對橫(heng)截面進行研磨、拋(pao)光和浸蝕。用校(xiao)正(zheng)過的(de)標尺(chi)測(ce)量覆蓋層橫(heng)斷面的(de)厚度。
影響測量不確定(ding)度(du)的(de)(de)因素(su)有：表面粗糙度(du)、橫斷(duan)面的(de)(de)斜度(du)、覆(fu)蓋層(ceng)變形、覆(fu)蓋層(ceng)邊(bian)緣倒角、附(fu)加鍍(du)層(ceng)、浸蝕、遮(zhe)蓋、放大率(lv)(lv)、載物臺測微計的(de)(de)校正、測微計目鏡(jing)的(de)(de)校正、對位、放大率(lv)(lv)的(de)(de)一致性、透鏡(jing)的(de)(de)質(zhi)量、目鏡(jing)的(de)(de)方位、鏡(jing)筒的(de)(de)長度(du)
橫斷面的制備：a）橫斷面垂(chui)直于(yu)覆(fu)蓋層；b）橫斷面(mian)表面(mian)平(ping)整，其圖像的整個寬度應在測量時(shi)所取的放大率下同時(shi)聚焦；c）由于切割和制備(bei)橫斷面所(suo)引起的(de)變形材質要(yao)去掉；d）覆(fu)蓋層橫斷面上的界面線僅(jin)由(you)外觀(guan)反差就能(neng)明顯地(di)確定(ding)或由(you)一條易于分辨的細線確定(ding)。
測量：1）注意(yi)各影響(xiang)因素；2）校(xiao)準(zhun)顯微鏡及測量裝置(zhi)；3）測量(liang)覆蓋層橫斷(duan)(duan)面圖像寬度(du)時(shi)，沿顯微斷(duan)(duan)面長度(du)至少去五點測量(liang)
測試結果說明(ming)：1）所取橫斷面上(shang)待測試樣(yang)上(shang)的位置；2）每點測量得厚度，以微米計；橫斷面上測量點分(fen)布(bu)的長度；3）局部(bu)厚度，即厚度測量(liang)值的(de)算術(shu)平(ping)均值
（2）GB/T 16921-2005金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量 X射線光譜法
適用范圍：本(ben)標準(zhun)規定了應(ying)用X射線光譜方(fang)(fang)法測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)金屬覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)厚(hou)度(du)的(de)方(fang)(fang)法。本標準(zhun)所用的(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)法基本屬于(yu)測(ce)(ce)(ce)定單(dan)位面積質量(liang)(liang)的(de)一種(zhong)方(fang)(fang)法。如果(guo)已知覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)材料的(de)密(mi)度(du)，則測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)結(jie)果(guo)也可用覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)的(de)線性厚(hou)度(du)表示(shi)。本測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)法可同時(shi)(shi)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)三層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)體(ti)系，或同時(shi)(shi)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)三層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)組分(fen)的(de)厚(hou)度(du)和成分(fen)。給定覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)材料的(de)實際測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)范圍主要取決于(yu)被分(fen)析的(de)特征X射線熒光的(de)能量以及所允許的(de)測量不確定度，而且因所用儀器設備和操作規(gui)程而不同。
試驗(yan)操作機理：覆蓋層單位面積質量(若密度已知，則為覆蓋層(ceng)線性厚度)和二(er)次輻射(she)強度之間存在(zai)一(yi)定(ding)的(de)(de)關系。對(dui)于任(ren)何(he)實際的(de)(de)儀器系統，該關系首先(xian)由(you)已知(zhi)單(dan)位面(mian)積質(zhi)量的(de)(de)覆蓋(gai)層(ceng)校(xiao)正(zheng)標(biao)準(zhun)塊校(xiao)正(zheng)確定(ding)。若(ruo)覆蓋(gai)層(ceng)材料的(de)(de)密度已知(zhi)，同時又給(gei)出(chu)(chu)實際的(de)(de)密度，則這樣(yang)的(de)(de)標(biao)準(zhun)塊就能給(gei)出(chu)(chu)覆蓋(gai)層(ceng)線性厚度。熒光強度是元素原(yuan)子序(xu)數(shu)的(de)(de)函數(shu)，如(ru)果表面(mian)覆蓋(gai)層(ceng)、中間覆蓋(gai)層(ceng)(如果存在)以及基(ji)體(ti)是由不同元素(su)組成或一(yi)個覆(fu)(fu)蓋層由不止一(yi)個無(wu)素(su)組成，則這些(xie)元素(su)會(hui)產生各自的輻射特(te)征。可調節適當的檢測器系統以選擇一(yi)個或多個能(neng)(neng)帶，使此設備既能(neng)(neng)測量表面覆(fu)(fu)蓋層又能(neng)(neng)同時測量表面覆(fu)(fu)蓋層和(he)一(yi)些(xie)中間(jian)覆(fu)(fu)蓋層的厚度(du)和(he)組成。
厚度測量：1）發(fa)射方法：若測量覆蓋(gai)層的特征輻射強度(du)，則在(zai)達到飽和厚度(du)前(qian)，此強度(du)將(jiang)隨厚度(du)的增(zeng)加(jia)(jia)面增(zeng)加(jia)(jia)，見(jian)圖1a)。使用X射(she)線發(fa)射(she)方法(fa)時，將儀器(qi)調(diao)到接收選定的(de)覆蓋層(ceng)材料(liao)的(de)特征能量帶，這樣，薄(bo)覆蓋層(ceng)產生(sheng)低強度(du)而厚覆蓋層(ceng)產生(sheng)高強度(du)。2）吸收(shou)方法：若測(ce)能基體(ti)的特征(zheng)輻(fu)射強度(du)，則此強度(du)隨厚度(du)增加(jia)而減小，見圖1b)。X射線吸收方法(fa)利用(yong)基體(ti)材料的特征能(neng)帶(dai)。這樣(yang)，薄(bo)覆蓋(gai)層產生(sheng)高強度而厚覆蓋(gai)層產生(sheng)低強度。在實際運用(yong)時，要注意(yi)確保不存在中間層。吸收特怔與發(fa)射特征反向相似。3）比(bi)(bi)率方法，當覆蓋(gai)層厚(hou)度用基體和覆蓋(gai)材(cai)料各自的(de)強度比(bi)(bi)表示(shi)時，則可能(neng)使X射(she)線吸收方法和發射(she)方法結合。這種強度比率方法的測(ce)量(liang)基本同試樣和檢測(ce)器之間的距(ju)離(li)無關。
影(ying)響結果的因素有：計(ji)(ji)數統計(ji)(ji)、校正標準塊、覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)厚度、測量面(mian)(mian)尺寸、覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)組成(cheng)、覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)密度、基體成(cheng)分、基體厚度、表(biao)面(mian)(mian)清潔度、中間覆蓋(gai)層(ceng)(ceng)、試樣(yang)曲率、激(ji)發(fa)能量和激(ji)發(fa)強度、檢測器(qi)、輻射程、計(ji)(ji)數率轉換為單位(wei)面(mian)(mian)積質量或厚度、試樣(yang)表(biao)面(mian)(mian)的傾斜度
試(shi)驗結果表示：強度值（計數率）向單位面積質量或厚度的(de)(de)轉換。使用適(shi)當的(de)(de)校準(zhun)標準(zhun)繪制類(lei)似于圖1的曲線。除非另有規定，單位面積質(zhi)量的結(jie)果(guo)用mg/cm2表示，厚度測量結果用μm表示。
（3）ASTM B748-90(2016)用掃描(miao)電(dian)鏡測量金(jin)屬(shu)鍍層厚(hou)度的(de)標(biao)準試驗方法
主要事(shi)項(xiang)：1）可切取橫(heng)斷面(mian)；2）鍍層(ceng)、基材顏(yan)色有區別才適用(yong)此方(fang)法；3）盡量(liang)考慮2um以上的鍍層測試
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